近紅外成像光譜儀可提供 900-1700nm（NIR）近紅外波段版本，設計上采用了更優(yōu)化的像差修正設計，成像質(zhì)量更好，幾無失真。

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更新時間：2025-12-04

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品牌	雙利合譜	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應用領域	綜合

近紅外波段版本介紹：

近紅外成像光譜儀可提供 900-1700nm（NIR）波段，設計上采用了更優(yōu)化的像差修正設計，成像質(zhì)量更好，幾無失真。

近紅外波段版本規(guī)格：

增強版	N17E
光譜范圍	900-1700nm
倒線色散	110nm/mm
光譜分辨率	5nm
像面尺寸(空間×光譜)	7.6×14.2mm
空間分辨率	<15μm, rms
像差	無像散枕形畸變:<5μm 梯形畸變:<5μm
相對孔徑	F/2.0
狹縫寬度	30μm(50,80,150可選)
狹縫長度	14.2 mm
通光效率	>50%
雜散光	<0.5%
鏡頭接口	C型
相機接口	C型
主體材料	鋁
外形尺寸	60×60×220mm
重量	1500g

雙利合譜科技是一家集光學、精密機械、電子、計算機技術于一體的高科技企業(yè)，由北京卓立漢光儀器有限公司和合利科技發(fā)展有限公司共同合資成立。

結合雙方近10年在推掃式高光譜系統(tǒng)以及LCTF（可調(diào)液晶濾光片）高光譜系統(tǒng)的技術實力，為廣大客戶提供全面的高光譜系統(tǒng)解決方案。目前國內(nèi)已經(jīng)成功在農(nóng)業(yè)遙感、工業(yè)分選、刑偵物證鑒定、機載、考古、食品檢測等領域處于高光譜應用的優(yōu)勢地位。

始終以滿足用戶需求為宗旨，分別于北京、上海、深圳、成都、西安設立辦事處，為用戶提供及時周到的銷售與技術服務。公司長期重視優(yōu)質(zhì)高效、盡可能短時間為客戶開發(fā)產(chǎn)品及提供技術支持。雙利合譜真誠的希望與國內(nèi)外客戶攜手合作，為推動我國科研及工業(yè)生產(chǎn)迅猛發(fā)展做出貢獻。

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