近紅外波段版本
| 品牌 | 雙利合譜 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
近紅外波段版本介紹：
近紅外成像光譜儀可提供 900-1700nm（NIR）波段， 設計上采用了更優化的像差修正設計，成像質量更好， 幾無失真。
近紅外波段版本規格：
增強版 | N17E |
光譜范圍 | 900-1700nm |
倒線色散 | 110nm/mm |
光譜分辨率 | 5nm |
像面尺寸(空間×光譜) | 7.6×14.2mm |
空間分辨率 | <15μm, rms |
像差 | 無像散 枕形畸變:<5μm 梯形畸變:<5μm |
相對孔徑 | F/2.0 |
狹縫寬度 | 30μm(50,80,150可選) |
狹縫長度 | 14.2 mm |
通光效率 | >50% |
雜散光 | <0.5% |
鏡頭接口 | C型 |
相機接口 | C型 |
主體材料 | 鋁 |
外形尺寸 | 60×60×220mm |
重量 | 1500g |
雙利合譜科技是一家集光學、精密機械、電子、計算機技術于一體的高科技企業，由北京卓立漢光儀器有限公司和合利科技發展有限公司共同合資成立。
結合雙方近10年在推掃式高光譜系統以及LCTF（可調液晶濾光片）高光譜系統的技術實力，為廣大客戶提供全面的高光譜系統解決方案。目前國內已經成功在農業遙感、工業分選、刑偵物證鑒定、機載、考古、食品檢測等領域處于高光譜應用的優勢地位。
始終以滿足用戶需求為宗旨，分別于北京、上海、 深圳、成都、西安設立辦事處，為用戶提供及時周到的銷售與技術服務。 公司長期重視優質高效、盡可能短時間為客戶開發產品及提供技術支持。雙利合譜真誠的希望與國內外客戶攜手合作，為推動我國科研及工業生產迅猛發展做出貢獻。
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